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平面刻划光栅

发布时间:  2022-10-28

产品型号:  GGR01

所  在  地:  北京市朝阳区酒仙桥东路1号M7栋东5层

产品特点:  制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精确路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精确控制。

(联系我时,请说明是在化工仪器网上看到的信息,谢谢!)
产品概述

    制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择,通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。

刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整,可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次

刻划后让钻石刀头按精确路线折回,并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精确控制。


红外波段特征:

光栅基片材料:  浮法玻璃

表面光洁度:60/40

尺寸公差:± 0.5 mm

厚度公差:± 0.5 mm

效率:60%~ 80% @闪耀波长

有效孔径:90%

损伤阈值:350mJ/cm² @200ns脉冲激光40W/cm² (CW)连续激光


 

 

 


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